痕量PGMEA气体的GC-MS分析

PGMEA(Propylene Glycol Methyl Ether Acetate)是一种电子工业用光刻胶的溶剂.由于运输,管道泄漏等原因,会有微量PGMEA蒸气渗入净化厂房内空气中,影响半导体制品的质量,必须严格控制在10μg/m3以下.本文用活性炭对某电子工厂净化厂房内空气中的PGMEA气体进行吸附采样,二硫化碳溶剂脱附,采用选择离子检测(SIM),并用内标法进行定量分析.结果表明该分析方法能满足对痕量PGMEA气体的监控要求.……

锆微粒可清除砷污染

日本北海道大学催化剂化学研究中心开发成功的用金属锆清除砷的技术,为净化地下水和处理半导体工厂废液找到了一条新途径. 该项技术与活性炭和活性铝相比,无害的锆容易与砷结合.因此,他合成了约千分之一毫米大,有很多蜂巢状六角形小孔的锆超微结构体.这种超微结构体能在水中通过离子交换迅速地吸附砷,锆超微结构体的净